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咸阳全新一代半导体引线框架曝光缺陷检测设备

系统采用机器学习算法,通过高达1微米的检测精度,着眼在批量生产中发现曝光不全、露铜、纹理偏移等各类缺陷。

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系统采用机器学习算法,通过高达1微米的检测精度,着眼在批量生产中发现曝光不全、露铜、纹理偏移等各类缺陷。


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